CryoSnow
ABOUT US
柯莱欧有限公司(CryoSnow GmbH)是一家生产工业清洗和喷射设备的系统供应商。公司多年致力于二氧化碳喷射工艺设备,包括二氧化碳雪及干冰喷射系统的研发、生产、销售和服务。
其设备广泛应用于清洗工业设施和产品表面的各种污染物。公司在使用液态二氧化碳和压缩空气作为清洗介质的喷射工艺方面拥有创新技术,在该领域拥有德国以及国际认可的知识产权,为全球
客户提供高品质的喷射清洗设备和各种配件。
柯莱欧CryoSnow总部位于德国柏林的Haselhorst工业区,于2005年和 2007年进行了大规模的扩建和现代化改造。公司占地约1500平方米,拥有近1000平方米的生产车间,包含会议和培训
功能的现代化办公楼,以及演示和测试设施。公司地处柏林的核心位置,驾车或经由柏林机场及火车站均可快速抵达。
柯莱欧CryoSnow团队在工业清洗和干冰技术领域已拥有数十年的丰富经验。所生产的清洗和喷射设备均为“德国制造”,符合各项现行法规及ISO 9000的规范标准。鉴于客户的高标准需
求,所有的产品都经历过严苛的质量检控。得益于现代化的设计和开发工具,以及创新的制造工艺,柯莱欧有能力在很短的时间内将工艺理念转化为批量产品。
柯莱欧CryoSnow始终坚持以客户为中心,为客户解决清洗问题、供应清洗设备、培训员工、研发专用设备、提供自动化解决方案并提供相关技术服务。
公司在柏林的总部可为全球客户提供服务。此外,在您所在地附近,我们也有销售和服务合作方为您提供称职的服务。在向您提供经济环保的先进清洗技术时,我们的技术专家也可根据需求
亲自上门为您进行设备的调试和安装。
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半导体激光bar条清洗 为保证半导体器件高可靠性、稳定性和使用的寿命,提升半导体产品成品率,避免污染物污染而造成电路失效,需要对半导芯片上的灰尘等残留物清洗。 目前普遍使用的是液态二氧化碳清洗工艺,通过液态二氧化碳的低温特性,可以高效清洗大功率半导体芯片上的灰尘。
半导体清洗工艺是指清洗半导体制造过程中所使用的一系列化学和物理工艺。常规的半导体清洗工艺包括以下几个步骤: 1. 使用雪花清洗机喷射清洗:雪花清洗机 即液态二氧化碳雪清洗机,利用液态二氧化碳低温得特性清洗金手指表面氧化物,效果极佳。 1. 粗清洗:该步骤旨在去除表面的砂粒、尘埃、油污等杂质。一般会使用去离子水、有机溶剂等清洗液进行清洗。 2. 碱性清洗:该步骤会使用浓度较高的碱性清
线路板金手指氧化后,可以采取以下步骤进行处理: 1. 使用雪花清洗机喷射清洗:雪花清洗机 即液态二氧化碳雪清洗机,利用液态二氧化碳低温得特性清洗金手指表面氧化物,效果极佳。 1. 清洗金手指:使用无水酒精、丙酮等有机溶剂擦拭金手指表面。注意不要用过硬的工具刮擦金手指表面,以免破坏金手指表面的保护层。 2. 思考采用化学氧化溶液:可以尝试使用化学氧化溶液进行清除。在选择化学氧化溶液时