硅片清洗

发布时间：2023-08-20
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    硅片清洗是一项重要的工艺步骤，用于去除表面的杂质和污染物，保证硅片的纯净度和表面平整度。以下是常用的硅片清洗方法：
 
1. 雪花清洗机清洗：利用液体二氧化碳低温的特性使硅片表面赃物剥离。
 
 
2. 酸碱清洗：先使用弱碱性溶液（如浓度为2%的氨水）浸泡硅片，去除有机污染物；接着使用弱酸性溶液（如浓度为2%的盐酸）进行浸泡清洗，去除金属离子等无机污染物。
 
3. 超声波清洗：将硅片浸泡在清洗液中，通过超声波震荡产生微小气泡，从而加速清洗剂的渗透和溶解效果，达到清洁表面的目的。
 
4. DI水清洗：使用高纯度的去离子水（DI水）对硅片进行冲洗，去除残留的清洗剂和离子杂质。
 
5. 氮气吹扫：用纯净的氮气对硅片进行吹扫，去除水分和颗粒物。
 
6. 高温烘干：将清洁后的硅片置于恒温烘箱中，进行高温烘干，以确保表面干燥和无残留物。
 
需要注意的是，在清洗硅片时要避免使用含有大量金属离子、有机物或颗粒物的清洗剂，以免对硅片表面造成二次污染或损坏。同时，在清洗过程中要严格控制工艺参数，确保清洗效果达到要求。
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